UV光刻机。
破晓A220光刻机性能虽优，但对於28纳米及以上的成熟工艺制程而言，显然DUV光刻机更具性价比。
一台通体银白的精密设备静静矗立在车间中央，线条流畅利落，无多余装饰，仅在机身关键部位镌刻着细密的接口与参数标识，运转时发出低沉均匀的嗡鸣声。
它比破晓A220矮了近一米，宽度却多出一倍。
「名字想好了吗？」
陈延森转身问道。
「还没定，等着您来决策。」
林南笑着回应。
他既是技术人员，也是管理核心，虽不屑於阿谀奉承，但基本的处事觉悟还是有的。
「Wph数值是多少？」陈延森又问。
「大约在395至405之间，我认为，它应该是目前全球最快的光刻机。」
林南立即回道。
Wph全称为Wafersperhour，即每小时可处理的晶圆数量。
这一数值越高，产能就越高，单枚晶片的成本也就越低。
星源科技之所以能在高端晶片代工领域轻松站稳脚跟，甚至将台积电打得溃不成军，靠的不正是破晓A220的超强生产效率吗？
同一款晶片，星源科技的成本更低、利润更高，自然拥有更大的议价空间和谈判优势。
而每小时能曝光400片以上12寸晶圆，相当於9秒就能产出一片布满晶片的矽片，堪称工业界的绝对暴力美学。
「就叫破晓D400吧！老梁，定价定在多少？」
陈延森看向梁劲松问道。
「5000万美币，保养和售後的费用另算，与阿斯麦的NXT1970Ci价格持平，但生产效率高出30%。」
梁劲松答道。
此外，NXT1970Ci的单次曝光最小半节距为40纳米，而破晓D400则达到28纳米。
这意味着，破晓D400不仅在产能上碾压阿斯麦的同价位机型，在工艺精度上更是实现了代际突破，能完美覆盖28纳米至90纳米之间的所有主流制程需求。
对於那些无需EUV光刻机的中低端晶片厂商而言，这台机器无疑是量身定制的性价比之王。
通过多重曝光技术，甚至可利用破晓D400生产16纳米、20纳米乃至14纳米的晶片，只是次品率和成本会翻数倍。
「5000万美币的定价还算合理，但破晓
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